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半導(dǎo)體光刻膠反應(yīng)釜防爆模溫機(jī)案例

作者:成都珞石機(jī)械 時(shí)間:2023-08-01 09:06:35 點(diǎn)擊:0

案例介紹

光刻膠是一種高分子化合物,主要用于微電子制造中的光刻工藝在微電子制造中,光刻膠的應(yīng)用非常廣泛,可以用來制造芯片、光學(xué)器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng)) 等微型器件。此案例客戶是半導(dǎo)體材料行業(yè)。

案例現(xiàn)場(chǎng)

    半導(dǎo)體案例光刻膠 光刻膠控溫案例

半導(dǎo)體光刻膠反應(yīng)釜防爆模溫機(jī)案例

選用設(shè)備

ExdⅡBT4隔離式防爆模溫機(jī)

產(chǎn)品名稱:防爆模溫機(jī)

機(jī)器型號(hào):EUOCBF

設(shè)備功率:6KW

功能配置:整機(jī)隔離式防爆 EXdII BT4,PLC編程控制,帶冷卻。

案例特點(diǎn)

反應(yīng)釜控溫光刻膠,使用溫度需要150度,反應(yīng)期間會(huì)有放熱,所以需要增加冷卻功能,設(shè)計(jì)1 平方( 板式換熱器 )。

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